据彭博社报道，美国旧金山法院在当地时间6月24日发出逮捕令，将涉嫌窃取美国存储大厂美光 DRAM 技术商业机密案的三位嫌疑人列入逮捕名单，这三名人员分别为福建晋华集成电路总经理陈正坤，美光跳槽联电的工程师何建廷和王永铭。何建廷早已离开，王永铭则仍联电工作。

在周三一场为时3分钟的听证程序中，上述三人未能出庭作证，于是旧金山的一位联邦地方法官发布了针对这三人的逮捕令。

助理检察官霍恩（Laura Vartain Horn）表示，在上周一和被告律师交谈后，得知三名被告将不会出庭，于是向法官申请了逮捕令。对被告逐一发布逮捕令，是适当的行动，也符合政府要求。

白领刑事诉讼辩护律师 Calvin Lee 表示，由于美国司法部宣布依据特别倡议把此案定义为特别诉讼，因此可能存在政治压力，要求对此案采取行动。

2018年11月2日，美国司法部宣布以“经济间谍罪”对台湾联华电子、福建晋华集成电路两家公司，以及晋华总经理陈正坤以及其他两位联电主管，提起了刑事和民事诉讼，指控这三人涉嫌窃取美国DRAM技术商业机密。

最终，台中地院2020年6月宣判，以违反商业机密法等罪将何建廷判刑5年6个月，罚金500万新台币；王永铭4年6个月，罚金400万新台币；联电协理戎乐天判刑6年6个月，罚金600万新台币；联电被判处罚金1亿元新台币。

联电表示将依法提起上诉，并强调并未违反营业秘密法，将依法对有罪判决及高额罚金提起上诉。

至于美国法院对涉嫌人员采取的逮捕令，联电回应表示，不便评论离职人员，相关案件仍会提起上诉。

联电指出，这次主要是针对个人部分，与公司无关，无法替3人发言；至于公司美国诉讼案，目前尚在法律程序中，不便评论。