据韩媒报导，日本东京Oka Industries（TOK）已开始在仁川松岛工厂生产用于极紫外（EUV）的光刻胶（PR）。与传统工艺相比，EUV具有更短的光波长，并且是半导体精制的必不可少的技术。

PR用于半导体曝光工艺中。当将其施加在晶圆上并用曝光设备进行拍摄时，会随着化学性质随曝光而变化，刻出电路图案。PR根据氟化氪（KrF），氟化氩（ArF）和EUV具有不同的属性。EUV由TOK，JSR和信越化学等日本公司主导。

三星电子获得了TOK的EUV PR。由于光刻胶属于日本对韩国出口管制的三种半导体材料中的一种，而引入EUV流程的公司仅三星电子和台积电两家公司，供应商高度依赖特定客户。这意味着，如果无法供应三星电子，收入下降是不可避免的。

TOK在韩国设厂，也受到了杜邦在韩国忠南天安市建立EUV PR生产设施以及Dongjin Semichem和SK Materials加强PR业务的影响。这些公司技术仍然不足，但是与三星电子的合作可以加快开发速度。

此外，许多日本公司正在向韩国转移。这是为了能保证供应三星电子和SK海力士。

Taiyo Holdings于5月宣布，将在韩国忠南建造一个干膜型阻焊剂生产厂，用于半导体包装和展示，五年内投资170亿韩元。Taiyo Holdings供应全球80％以上的阻焊剂。阻焊剂是一种绝缘涂层材料，可保护印刷线路板（PWB）的电路图案。这对于防止电气缺陷和确保绝缘至关重要。

生产用于半导体器件的石英玻璃的Tosso计划明年通过成立一家韩国公司来批量生产产品。全球设备公司东京电子（TEL）将在三星平泽校区附近启动一个技术中心。

关东电业工业有限公司开始运营位于忠南天安市的新工厂。它生产用于半导体工艺的特殊气体羰基硫。该设施还将在工厂内配备研究设施，以提高客户的响应能力。