据电子材料市场研究与咨询服务公司TECHCET预测，到2021年半导体制造所需的光刻胶市场规模将同比增长11％，达到19亿美元。

从抗蚀剂类型来看，2020年和2021年的光刻胶市场，用于KrF和浸入式ArF的光刻胶市场较高，而其他如G & i线和干式ArF则不那么大。

另外，对于在先进工艺中必不可少的EUV，应用范围正在从逻辑芯片扩展到DRAM。ASML在2020年生产了35台大型NXE：3400系列，但由于提高了组装效率，预计到2021年可以出货50台。与此同时，2021年的EUV光刻胶市场也比上一年翻了一番超过2000万美元，并且此后还将继续增长，预计到2025年将超过2亿美元。