据韩媒报导，应用材料在韩国推出其最新的光学晶圆检测系统，并计划将其供应范围从晶圆代工和逻辑扩展到存储芯片。

韩国应用材料公司高级总监Lee Suk-woo表示，新系统将减少芯片开发，并缩短半导体公司的交货时间。诸如3D晶体管和多图案技术之类的复杂技术的应用增加了发现和修复缺陷所需的时间，而新系统将有助于解决这一问题。

Enlight是一种高分辨率，高速检查系统，可以在生产过程中添加检查步骤，同时还可以使用大数据来预测降低良率的潜在原因，这些增加的步骤将使芯片制造商能够更好地监控他们的生产线。与竞争对手的系统相比，使用该系统可以将发现关键缺陷的成本节省三分之一。Enlight还支持图像收集中的明场和灰场。

Lee透露，应用材料公司为Enlight花费了五年的时间来收集数据和技术开发，Enlight于2019年首次发布。自发布以来，到目前为止，累计销售额已达4亿美元，是公司历史上销售最快的产品。

Extract AI技术用于定位缺陷，该缺陷可导致光学晶片检测系统产生的数百万个信号和噪声中的良率降低。应用材料公司说，该过滤算法使工程师能够确保可管理数量的数据集。

Extract AI可以与Enlight配对。应用材料表示，仅通过查看问题区域的0.001％，就可以找到缺陷的原因。  

SEMVision G7系统可以与新的Enlight系统和Extract AI同步，SEMVision上的电子束用于对特定的合格率信号和大数据进行分类。使用AI算法训练分类数据。这使芯片客户可以加速芯片生产并提高生产率。