据韩媒报导，荷兰半导体设备公司ASML将在今年年底提供透光率达90％或更高的防护膜，该防护膜可用于极紫外（EUV）曝光设备。 

ASML韩国分社社长李明圭（音译）日前表示：“我们计划在年内批量生产90.6％透射率的防护膜。一种可以确保400瓦功率容量持久性的产品。” 据说该技术是与美国的Terrordyne共同开发的。 

ASML在2016年开发了第一款基于多晶硅的EUV防护膜。当时的透射率仅78％；2018年提供了超过80％的透光率；2020年透光率超过85％。

三星电子和台积电等采用EUV设备大量生产芯片的公司表示，仅当薄膜透光率超过90％时，才可以使用它们。尽管担心由于透射率问题掩模可能会暴露在灰尘下，但这些公司一直在进行无防护膜的工艺。如果今年大量生产的防护膜超过90％，则半导体制造商将有望在EUV工艺中充分利用防护膜。 

ASML通过日本三井化学公司生产防护薄膜。两家公司于2019年签署了'EUV Pellicle Business'的许可协议。

韩国国内厂商FST和S＆S Tech也正在为EUV开发防护膜。2020年年底，FST宣布了其技术目标，即在今年上半年推出具有90％透射率的“全尺寸”防护膜，该防护膜基于碳化硅（SiC）材料。