据韩媒报道，ASML将在未来几个月推出2nm芯片设备，数值孔径（NA）光学性能从 0.33 提高到 0.55。

目前EUV光刻机可以支援芯片制造商将芯片工艺推进到3nm左右，但芯片制造商如果要继续推进到2nm，甚至更小的尺寸，就需要更高数值孔径的 High-NA 光刻机。

有媒体报道称，ASML计划明年生产10台2nm芯片制造设备，而英特尔据传已经预订其中六台。

售价方面，ASML最新High-NA EUV 光刻机的价格将介于3亿至3.5亿欧元，目前热销的EUV 光刻机单价则为 1.5 亿至 2 亿美元。