据韩媒报导，韩国半导体和显示材料制造商Dongjin Semichem已获得用于ArF（氟化氩）光刻胶开发的附加光刻设备，以便迅速进入由日本公司垄断的ArF光刻胶市场。ArF是当前用于半导体光刻工艺的关键材料。

据悉，Dongjin Semichem计划从ASML引进ArF浸没式光刻设备，以加快ArF光刻胶的开发过程。该设备是Dongjin Semichem在韩国最大的客户所使用的二手设备。

Dongjin Semichem去年在其天安工厂引进了ArF浸没式光刻设备。但是，自从日本政府于去年年底对韩国实施贸易限制以来，光刻胶的本地化已成为一个重要的话题，因此其一直在寻求购买额外的设备。它计划在经过ASML的翻新过程后尽快引入设备。

业内人士表示：“ Dongjin Semichem似乎将通过政府预算支付的研发费用用于购买其他必要设备。其高层管理人员极有可能成为Dongjin Semichem决定从ASML购买该设备的推动力。”

ArF光刻胶是必须通过平版印刷工艺复制到特定光源的图形之前，将其应用于晶圆的材料。半导体制造商目前使用ArF来批量生产其主要芯片。

ArF光刻胶可用于干式设备，该设备使用空气对到达晶圆的光进行折射，而浸入式设备则使用具有高光折射率的液体。

业界目前使用ArF浸没设备作为主要的光刻系设备。用于ArF浸没设备的光刻胶主要来自日本公司，例如JSR Corporation，信越化学和Tokyo Ohka Kogyo。这些公司在向韩国半导体制造商出口产品时取得了巨大的销售额。

Dongjin Semichem目前生产用于干式和浸入式设备的光刻胶。但是，据闻其市场份额微不足道。

业内人士认为，Dongjin Semichem将通过今年购买多个ArF浸没设备，更加集中地进入ArF光刻胶市场。有分析认为，Dongjin Semichem基本上是唯一一家真正进入市场的韩国公司。

“尽管有计划拥有两个ArF浸没设备，但我们不确定将来要购买多少设备。” Dongjin Semichem的一位代表说。“我们无法透露有关我们购买设备计划的任何具体信息。”