据媒体报道，荷兰半导体设备厂商ASML正在研发新一代EUV光刻机：EXE:5000系列，主要提升指标为NA（数值孔径）达到了0.55，主要合作伙伴是卡尔蔡司、IMEC比利时微电子中心。

与之前的光刻机相比，新一代光刻机意味着分辨率提升了70%左右，可以进一步提升光刻机的精度，毕竟ASML之前的目标是瞄准了2nm甚至极限的1nm工艺的。

据悉，新一代光刻机至少要到2022年才能出货，大规模出货要到2024年甚至2025年。

目前ASML出货的光刻机主要是NXE:3400B及改进型的NXE:3400C，两者基本结构相同，但NXE:3400C采用模块化设计，维护更加便捷，平均维修时间将从48小时缩短到8-10小时，支持7nm、5nm。此外，NXE:3400C的产能也从之前的125WPH（每小时处理晶圆数）提升到了175WPH。