据日媒报导，Lam Research 于 7 月 12 日（美国时间）与半导体材料制造商三菱化学集团美国子公司 Gelest 和半导体材料制造商 Entegris 合作，开发用于自家 EUV 光刻干式抗蚀剂技术的前驱体，并宣布将供应给客户。

Lam Research 的 EUV 干式光刻胶技术最初是与 ASML 和 imec 联合开发的，与传统的使用液态光刻胶的旋涂方法不同，它是一种利用 CVD 沉积固体光刻胶的新方法，因此它是一种前驱体。CVD形成的抗蚀剂层的紫外光吸收率比传统液体抗蚀剂高数倍，通过曝光时的分辨率的提高，生产率（吞吐量）和成品率得到改善，抗蚀剂材料的使用量与以往相比可以削减1/5～1/10，可以期待成本降低。另外，通过使抗蚀剂的显影也干化，还具有能够防止因湿显影时产生的显影液或冲洗液的表面张力引起的抗蚀剂图案倒塌的优点。

Lam Research 解释说，这三家公司之间的合作将扩大干式抗蚀剂技术的生态系统，并通过提供双源（多个托运人）的前体来确保全球市场的稳定供应。