美国芯片设备制造商应用材料公司28日透露，其已开始销售一种新工具，可以降低光刻的工艺成本。

光刻利用极细光线在晶圆上印刷图案，晶圆是用于芯片制造的闪亮圆盘。每片晶圆都须数十次的印刷，每次都要历经一个复杂的过程，沉浸材料，测量以确保图案被正确印刷，然后蚀刻材料以制造晶体管和其他物品，最后清洗晶圆以重新开始。

随着图案变得越来越小，已达光学物理的极限，需要额外的技巧来满足需求。荷兰工具制造商 ASML (ASML-US) 的最新光刻工具即为代表，称为 EUV，代表极紫外光，也就是所使用的光线波长。技巧之一是将一种模式重复两次。

报道称，应用材料的新工具称为 Centura Sculpta，让第一个图案只须照射一次光就能刻出最终图案。

开发该产品的团队负责人谢尔曼 (Steven Sherman)解释，「我们其实是创造了一种等离子体，通过静电将其塑造成所需的带状束。」「再以一定角度将其引导至晶圆，之后再非常精确地以一定的精度去除材料，以改变晶圆上图案的形状。」

他说，即使只是消除一个光刻周期也可以省下不少资金、能源和水。根据估计，每次在光刻工艺中使用 Centura Sculpta，芯片制造商可以为每月可处理 10 万片晶圆的制造设施节省约 2.5 亿美元的资本成本。

应用材料公司在声明中引述英特尔的话说，它在「Sculpta 优化」方面密切合作，并将使用该技术。它拒绝透露其他客户的名字。