报道称美光预计在1c nm级DRAM产品中应用金属钼和钌
AVA 2024-02-01 11:39
据韩媒报道，为减少DRAM产品的线宽，美光预计在1c nm级DRAM产品的字线（word line）和位线（bit line）中应用金属钼和钌。
在1a和1b nm级DRAM产品中字线和位线应用的是金属钨，金属钼和钌的电阻率比钨更低，因此可以减少DRAM产品的线宽。
据悉，美光将是业界第一家将钼和钌应用在DRAM产品上的企业，预计三星电子和SK海力士将在1c nm级DRAM中继续使用钨。
