据韩媒报道，三星电子近期通知ASML减少计划引进的下一代高NA EUV光刻设备数量。

报道称，三星电子最初计划在未来十年内购买三台以上的下一代产品，即 EXE:5200、EXE:5400 和 EXE:5600。但三星最新决定仅引进EXE:5200，并将在未来重新考虑引进后续版本。

此举发生在三星电子副董事长全永铉审查正在进行的项目和投资后，将导致原计划与ASML在首都地区建立的EUV联合研究中心陷入停滞。尽管计划有所改变，但三星电子相关人士表示：“引进ASML High NA EUV设备的计划没有改变”，并保证“两家公司的研发中心也将建立在最佳位置”。

时任 DS 部门负责人、现任未来事业规划组及 SAIT负责人的 Kyung Kye-hyun 强调了通过联合研究建立 High NA EUV 合作关系的重要性。他表示：“三星现在在‘High NA EUV’方面拥有技术优先权，我认为我们已经创造了一个机会，可以在 DRAM 或逻辑半导体中长期充分利用 High NA EUV。”