SK海力士工艺转型进入关键窗口期,1c DRAM有望明年成为主流工艺
M 2026-09-07 15:091c DRAM占比陆续提高,明年Q1有望超1b DRAM成为主流工艺
据韩媒ChosunBiz援引业内人士消息,SK海力士1c DRAM的占比从今年第一季度的10%左右升至第二季度的13%左右,预计第三季度将达到24%左右,第四季度将增长至34%左右。明年第一季度,1c DRAM占比预计将达到35%左右,首次超过1b的约33%,成为主流工艺。
据悉,1b DRAM的份额在今年第二季度达到约43%的高点后,目前呈现下降趋势,老一代的工艺占比随1c DRAM工艺的转型推进而逐步缩减。SK海力士在今年第二季度财报电话会议上确认,采用10nm级第六代1c DRAM已于当季开始正式正式供货。
SK海力士以1b DRAM稳守HBM4,1c DRAM首发HBM4E
三星电子和SK海力士在HBM4领域的竞争与1c转换速度密切相关。SK海力士出于优先保障量产稳定性的考虑,在HBM4采用成熟的1b DRAM和MR-MUF封装技术,并计划在HBM4E中首次将1c DRAM作为核心芯片应用。相比之下,三星电子则是从HBM4阶段即采用1c DRAM,运行速度达到11.7Gbps。
相关从业者表示,1c转换速度固然令人关注,但实际意义还需看量产良率和客户认证计划的落实情况。
单片晶圆产出提升,成本竞争力与利润率有望增强
1c DRAM工艺转型带来的不仅是小型化,还包括单片晶圆bit产量的提升,相同晶圆投入下输出比特数增加,有助于增强成本竞争力。随着1c DRAM技术转型以及服务器、HBM等高附加值产品扩产同步推进,生产效率的提升极有可能直接转化为利润率的改善。SK海力士预计,随着下半年HBM4产能扩大,基于1c工艺的通用DRAM出货量也将随之增长,下半年bit增长率将高于上半年。